電子顕微鏡に搭載するEDS（エネルギー分散型X線分析装置）を応用した製品について、粒子解析・鉱物解析・自動解析の企画、アプリケーション開発、評価を担う技術開発職です。
この求人について
EUV露光向けフォトマスクの製造に使うマルチ電子ビームマスク描画装置の上流開発を担う職種です。装置はオーストリアのIMS社との協業で、電子ビームを扱う中核部はIMS社、描画中にマスクを動かす高精度ステージや真空チャンバー、試料搬送系といった「プラットフォーム」を日本電子が開発・供給しています。
図面を描く設計ではなく、装置のあるべき姿を考えて社内の機械・電気・ソフト設計部門に仕様を示し、完成した試作機や実機を評価して改善につなげます。新製品や既存機アップグレードの仕様検討と性能評価、海外出張を含む顧客課題への対応、マニュアルや仕様書の作成も担当し、設計・製造部門とIMS社の橋渡し役となります。
応募にはメールでの英語コミュニケーションと海外出張への対応が必須で、さらに半導体製造装置や精密・計測機器の開発設計、装置メーカーでのアプリケーション／プロセスエンジニア経験、半導体・フォトマスクメーカーでのプロセス開発、真空・搬送・駆動分野での開発評価のいずれかの経験が求められます。
これは企業の公式求人情報をもとにAIで作成した要約です。情報が不完全、古い、または誤っている可能性があります。応募前に必ず公式の求人情報ですべての内容をご確認ください。
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